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俄罗斯首台光刻机制造完成:可生产350纳米工艺芯片

据塔斯社报道,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长 Vasily Shpak 表示,该设备可确保生产 350 纳米工艺的芯片。

Shpak 表示,“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分,目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在 2026 年制造可以支持 130nm 工艺的光刻机。

据悉,350 纳米工艺的芯片现在仍然可以应用于汽车、能源和电信等多个行业。

据IT之家此前报道,俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所(IPF RAS) 曾于 2022 年宣布,正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备,并对外夸下海口:这套光刻机能够使用 7nm 生产芯片,可于 2028 年全面投产。

据介绍,他们计划在六年内制作出光刻机的工业原型,首先要在2024 年开发一台 alpha 机器。这一阶段的重点不在于其工作或解决的高速性,而在于所有系统的全面性。

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